商傳媒｜記者責任編輯／綜合外電報導
儘管美國政府出手對高階晶片及技術進行出口管制，根據《金融時報》披露，中國半導體產業仍致力突圍，且很可能已有所進展。報導指出，中國晶片代工大廠中芯國際（SMIC）正在測試由上海新創公司「宇量昇」研發的28 奈米深紫外光（DUV）曝光機，若試驗順利，將為中國邁向自製先進晶片製程設備奠定基礎。
過去中芯國際高度依賴荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）供應的DUV機台，但近年受限於美國出口管制，中國只能獲得較舊款的DUV沉浸式設備，目前最多可支援7奈米生產。報導指出，中芯國際已利用該技術推進至7奈米，但受限於進口設備，擴產能力受阻，迫使中國尋求本土替代方案。
據悉，中芯國際目前正致力以「宇量昇」的DUV設備進行7奈米試產，該機台理論上能推進至5奈米，但產能良率偏低，主因是DUV在縮小線寬時需進行多重曝光，容易累積對位誤差，造成大量晶片報廢；不過，在中國政府大力支持及推動下，AI運算需求龐大，業者可能願意接受較低良率，以換取產能突破。
近期中國官方積極鼓勵本土企業採用國產晶片與設備，以因應國際供應鏈封鎖。隨著AI算力需求暴增，中國市場對高效能晶片需求加速成長，預計未來數年內，AI晶片產量可能增加兩至三倍。
這項消息若屬實，代表中國半導體供應鏈有望擺脫對歐美廠商的依賴，中芯國際未來可透過國產設備，維持在先進製程上的進展；不過，業界普遍認為，中國DUV設備與國際一線水準仍有顯著差距，短期內難以撼動ASML在高端設備廠的壟斷地位。
