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美國會提案擴大對中晶片管制 ASML DUV設備首當其衝

商傳媒
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Published: 2026/04/07
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6 Min Read
美國會提案擴大對中晶片管制 ASML DUV設備首當其衝
美國會提案擴大對中晶片管制 ASML DUV設備首當其衝
圖/本報AI製圖(示意圖)

商傳媒|責任編輯/綜合外電報導

美國國會已提出一項名為「MATCH Act」的出口管制新法案,旨在大幅收緊對中國晶片製造商的半導體設備銷售、維護與技術支援。此法案的核心目標,是限制中國取得其無法自主生產的關鍵設備,以維護美國在人工智慧(AI)領域的領先優勢。這項立法由眾議員 Michael Baumgartner 和眾議院中國問題特別委員會主席約翰·穆勒納爾(John Moolenaar)共同發起,與白宮主導的現行對中限制有所不同,此次由國會帶頭推動。

根據報導,該法案特別鎖定全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)的浸潤式深紫外光(DUV)曝光機。目前美國已禁止ASML向中國出口最先進的極紫外光(EUV)設備,而這項新法案則將限制範圍擴大至較舊型的DUV設備及其維護服務。受管制的中國企業包含中芯國際(SMIC)、華虹半導體、華為、長鑫存儲(CXMT)及長江存儲(YMTC)等主要晶片公司,未來若法案通過,這些企業將面臨類似於被列入美國實體清單的出口、服務與技術支援限制。

「MATCH Act」法案不僅針對中國,也要求美國盟友實施同等程度的管制措施。若盟國未能在法案生效後的150天內展現更嚴格的法規,美國商務部將可能採取限制性措施。此外,此立法亦擴大了美國對於含有美國軟體、技術或零件的外國製造產品的管制權限。

過去一年,中國一直是ASML的最大市場。2025年,中國市場貢獻了ASML總營收的33%,但預計今年這項比例將降至約20%。對於這項立法提案,荷蘭外交部發言人表示:「評論其他國家的立法草案並非我們的職責。」另一方面,為應對美國潛在的晶片設備限制,近期有中國代表團訪問研究機構與製造商,強調在稀土開採、生產及商業應用方面的合作,暗示中國可能考慮以稀土作為反制措施。

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